光譜分析為歷史悠久的分析技術(shù)，以1666年牛頓首次引入“spectro”（光譜）一詞算起，至今已經(jīng)歷了350年，不論是基礎(chǔ)理論研究還是實(shí)用技術(shù)都不斷發(fā)展，已經(jīng)形成包含原子光譜及分子光譜分析在內(nèi)，理論完善、技術(shù)成熟的分析技術(shù)，出現(xiàn)了多種應(yīng)用于各種領(lǐng)域的光譜分析儀器，成為各個(gè)分析檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室必備的基礎(chǔ)分析手段。作為供化學(xué)工作者使用的分析技術(shù)專業(yè)工具書，《分析化學(xué)手冊(cè)》從第二版起便將光譜分析單獨(dú)成冊(cè)，列為手冊(cè)的第三分冊(cè)《光譜分析》，匯集了原子光譜、分子光譜的各種分析技術(shù)和方法的資料，成為各行業(yè)中從事光譜分析的技術(shù)人員和分析化學(xué)工作者的案頭工具書。 

      第二版出版至今已經(jīng)歷了18個(gè)年頭，這期間光譜分析在儀器設(shè)備、測(cè)量技術(shù)和應(yīng)用領(lǐng)域又有很大發(fā)展，出現(xiàn)多種新的分析技術(shù)和新的儀器類別，使光譜分析發(fā)展形成了兩大門類（原子光譜和分子光譜）、四大分析類型（發(fā)射光譜分析、吸收光譜分析、熒光光譜分析和拉曼光譜分析）、多種分析儀器的完整體系。為了滿足這一發(fā)展所帶來的需求，本次再版將《分析化學(xué)手冊(cè)》第二版第三分冊(cè)《光譜分析》分成了兩冊(cè)——3A為《原子光譜分析》，3B為《分子光譜分析》，重新編排改版，以反映21 世紀(jì)以來高新技術(shù)發(fā)展在光譜分析上的技術(shù)進(jìn)步及應(yīng)用拓展。 

      本書為《分析化學(xué)手冊(cè)》（第三版）3A分冊(cè)《原子光譜分析》。本分冊(cè)在第二版原子光譜分析相關(guān)內(nèi)容的基礎(chǔ)上，按照原子光譜已自成體系的原子發(fā)射光譜（AES）、原子吸收光譜（AAS）、原子熒光光譜（AFS）及X 射線熒光光譜（XRF）四大部分，獨(dú)立成篇，原子發(fā)射光譜篇?jiǎng)t按各類分析技術(shù)手段分章進(jìn)行編撰。 

     第一篇光譜分析概論保持第二版的框架結(jié)構(gòu)，保留光譜分析有關(guān)的基礎(chǔ)知識(shí)內(nèi)容和原子光譜分析共通的基礎(chǔ)理論資料，作為光譜分析的基礎(chǔ)篇。 

     第二篇原子發(fā)射光譜分析按現(xiàn)代原子發(fā)射光譜分析技術(shù)類型分章編撰，包括火花放電/電弧直讀光譜、電感耦合等離子體（ICP）/微波等離子體（MP）發(fā)射光譜、輝光放電光譜（GDS）、激光誘導(dǎo)擊穿光譜（LIBS）等分析技術(shù)，并保留了經(jīng)典的攝譜法光譜分析技術(shù)、火焰發(fā)射光 

     譜分析技術(shù)的內(nèi)容，以備參考查閱。章節(jié)安排和內(nèi)容均有較大改變和補(bǔ)充，微波等離子體光譜分析、輝光放電光譜分析及激光誘導(dǎo)擊穿光譜分析均為新增內(nèi)容。 

    第三篇原子吸收光譜分析將第二版中原子吸收與原子熒光光譜分析法分開，單獨(dú)成篇，在第二版的基礎(chǔ)上，增編了近十多年來AAS 的技術(shù)發(fā)展內(nèi)容，增加連續(xù)光源原子吸收光譜分析技術(shù)和新型儀器結(jié)構(gòu)，以及近十幾年來的應(yīng)用實(shí)例和標(biāo)準(zhǔn)分析方法，內(nèi)容上有較大程度的更新。 

      第四篇原子熒光光譜分析對(duì)第二版中相關(guān)章節(jié)進(jìn)行調(diào)整補(bǔ)充和較大程度的更新，增添了色散原子熒光光譜分析技術(shù)及其應(yīng)用內(nèi)容，并收列了在國內(nèi)發(fā)展很快、應(yīng)用廣泛的蒸氣發(fā)生-原子熒光光譜（VG-AFS）分析實(shí)驗(yàn)技術(shù)，以及近期發(fā)展的色譜-原子熒光光譜聯(lián)用技術(shù)在形態(tài)分析上的應(yīng)用內(nèi)容。增加了具有我國特色的VG-AFS 分析儀器結(jié)構(gòu)及其應(yīng)用和分析標(biāo)準(zhǔn) 

方法。 

       第五篇X 射線熒光光譜分析在第二版的基礎(chǔ)上，按波長色散X 射線熒光（WDXRF）光譜和能量色散X 射線熒光（EDXRF）光譜分析技術(shù)，兩大類型XRF 的儀器及其應(yīng)用進(jìn)行編撰。除保留第二版中有關(guān)X 射線熒光光譜分析的基本物理參數(shù)表格作為附表收列外，所有內(nèi)容均重新編撰，加強(qiáng)基本理論、現(xiàn)代XRF 光譜儀結(jié)構(gòu)、定量分析方法和制樣技術(shù)等系統(tǒng)內(nèi)容，增加了現(xiàn)代微區(qū)X 射線光譜分析及形態(tài)分析原理和技術(shù)章節(jié)，增加了XRF 分析標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)與標(biāo)準(zhǔn)方法的內(nèi)容。 

     本分冊(cè)由北京理化分析測(cè)試技術(shù)學(xué)會(huì)光譜專業(yè)委員會(huì)組織修編，主編鄭國經(jīng)，副主編羅立強(qiáng)、符斌、張錦茂。第一篇及第二篇第三、第五、第十章由鄭國經(jīng)編寫，第四章由趙雷編寫，第六章由羅倩華和鄭國經(jīng)編寫，第七章由金欽漢編寫，第八章由余興編寫，第九章由張勇和余興編寫；第三篇由符斌、高介平、馮先進(jìn)和唐凌天編寫；第四篇由張錦茂、梁敬編寫；第五篇由羅立強(qiáng)、詹秀春、卓尚軍、沈亞婷、曾遠(yuǎn)、唐力君等編寫。全書由鄭國經(jīng)統(tǒng)稿。 

在修訂過程中本書責(zé)任編輯給予了大力協(xié)助，組織審稿，給出了十分寶貴的修改意見，為本次         修版的完成傾注了大量精力，在此對(duì)本書責(zé)任編輯及審稿者表示衷心感謝。 

      因編撰者在專業(yè)知識(shí)面及學(xué)術(shù)水平上的局限，本書的不足之處在所難免，尚祈分析化學(xué)界專家及廣大讀者批評(píng)指正，為所企盼。 

編者 

2016年5月于北京