定 價(jià):54 元
叢書(shū)名:中外物理學(xué)精品書(shū)系·前沿系列
- 作者:硅基光電子學(xué)
- 出版時(shí)間:2012/11/1
- ISBN:9787301210062
- 出 版 社:北京大學(xué)出版社
- 中圖法分類:TN304.2
- 頁(yè)碼:302頁(yè)
- 紙張:膠版紙
- 版次:1
- 開(kāi)本:16開(kāi)
《中外物理學(xué)精品書(shū)系·前沿系列15:硅基光電子學(xué)》是筆者在微納光電子領(lǐng)域多年研究和教學(xué)基礎(chǔ)上完成的,系統(tǒng)描述了硅基光電子學(xué)的基礎(chǔ)理論、器件原理及應(yīng)用前景。全書(shū)共10章。第1~3章講述了硅基光電子學(xué)的起源及所需的基本知識(shí);第4章介紹了硅基無(wú)源器件;第5~8章為硅基有源器件,包括光源、調(diào)制器、探測(cè)器、表面等離子體激元器件等;第9章介紹器件工藝與系統(tǒng)集成;第10章探討了硅基光電子學(xué)的應(yīng)用。
《中外物理學(xué)精品書(shū)系·前沿系列15:硅基光電子學(xué)》可作為高等院校電子學(xué)、光電子學(xué)、物理電子學(xué)、微電子與固體電子學(xué)、通信與信息系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)技術(shù)等專業(yè)高年級(jí)本科生和研究生相關(guān)課程的教材。對(duì)于在相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)工作的研究人員和工程技術(shù)人員,《中外物理學(xué)精品書(shū)系·前沿系列15:硅基光電子學(xué)》也是一本有用的參考書(shū)。
周治平,北京大學(xué)信息科學(xué)技術(shù)學(xué)院教授,長(zhǎng)江學(xué)者特聘教授,SPIE Fellow IET Fellow.中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)第六、第七屆理事會(huì)理事,IEEE中國(guó)武漢分會(huì)創(chuàng)會(huì)主席(2006-2008)。1993年獲美國(guó)喬治亞理工學(xué)院博士學(xué)位。長(zhǎng)期從事微納光電子器件及其集成技術(shù)的研究和開(kāi)發(fā),在硅基光源、納米光柵、光電調(diào)制、光學(xué)傳感、光子晶體、表面等離子體器件及硅基集成技術(shù)等方面有獨(dú)創(chuàng)性成果。發(fā)表論文、特邀報(bào)告270余篇,參編書(shū)籍5部,擁有國(guó)際國(guó)內(nèi)專利15項(xiàng)。講授過(guò)現(xiàn)代電子通信、集成電路、光電子學(xué)、硅基光電子學(xué)等課程。
第一章 緒論
§1.1 從微電子到光電子
§1.2 硅基光電子學(xué)的發(fā)展
§1.3 硅基光電子學(xué)的應(yīng)用
§1.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第二章 硅中光子與電子的相互作用
§2.1 波動(dòng)光學(xué)與光子光學(xué)
§2.2 半導(dǎo)體能帶結(jié)構(gòu)
§2.3 硅基光子晶體帶隙結(jié)構(gòu)
§2.4 硅中光子與載流子的相互作用
參考文獻(xiàn)
第三章 硅基光波導(dǎo)
§3.1 電磁理論基礎(chǔ)
§3.2 光波導(dǎo)基本理論
§3.3 波導(dǎo)耦合理論
§3.4 SOl光波導(dǎo)
參考文獻(xiàn)
第四章 硅基無(wú)源器件
§4.1 光柵器件
§4.2 光子晶體平板波導(dǎo)
§4.3 多模干涉耦合器
§4.4 陣列波導(dǎo)光柵
§4.5 微環(huán)諧振腔
§4.6 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第五章 硅基光源
§5.1 光發(fā)射的基礎(chǔ)理論
§5.2 硅放大的限制
§5.3 硅基發(fā)光材料
§5.4 硅基發(fā)光二極管
§5.5 硅基激光器
§5.6 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第六章 硅基光學(xué)調(diào)制
§6.1 光學(xué)調(diào)制原理
§6.2 光學(xué)調(diào)制評(píng)價(jià)
§6.3 硅基電光調(diào)制
§6.4 硅基熱光調(diào)制
§6.5 硅基聲光調(diào)制
參考文獻(xiàn)
第七章 硅基光電探測(cè)器
§7.1 光電探測(cè)器的基本原理
§7.2 光電探測(cè)器的特性和結(jié)構(gòu)
§7.3 硅光電探測(cè)器
§7.4 鍺硅光電探測(cè)器
§7.5 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第八章 硅基表面等離子激元器件
§8.1 表面等離子激元概述
§8.2 表面等離子激元局域增強(qiáng)特性
§8.3 表面等離子體激元器件
§8.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第九章 硅基光電子器件工藝與系統(tǒng)集成
§9.1 平面工藝
§9.2 薄膜制備
§9.3 光刻技術(shù)
§9.4 刻蝕技術(shù)
§9.5 系統(tǒng)集成
§9.6 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
……
第十章 硅基光電子學(xué)的應(yīng)用