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硅通孔垂直互連技術(shù) 讀者對象:本書可供高等院校微電子科學(xué)與工程、電子信息工程、電子封裝、電子科學(xué)與技術(shù)、集成電路科學(xué)與工程、機(jī)械工程等學(xué)科專業(yè)的高年級本科生、研究生和教師使用,也可供相關(guān)領(lǐng)域的科研人員和工程技術(shù)人員參考
硅通孔垂直互連技術(shù)是實(shí)現(xiàn)三維集成電路與微系統(tǒng)的關(guān)鍵核心技術(shù)。硅通孔可以有效縮短芯片間的互連距離,提高互連密度,從而實(shí)現(xiàn)更大的帶寬、更低的功耗和更小的尺寸。本書以作者多年來在垂直硅通孔結(jié)構(gòu)、模型、制造工藝等方面的研究成果為基礎(chǔ),系統(tǒng)全面地介紹硅通孔制備過程中的關(guān)鍵工藝技術(shù),是一本講述基于硅工藝的三維垂直互連技術(shù)的專著。此外,書中最后給出了超小直徑、超高深寬比硅通孔和聚合物內(nèi)核大深度表面?zhèn)鬏斝凸柰ǹ椎南冗M(jìn)制備工藝實(shí)例。
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