第1章薄膜生長(zhǎng)基礎(chǔ)
1.1概述 1
1.2薄膜生長(zhǎng)過(guò)程 2
1.2.1薄膜生長(zhǎng)的類(lèi)型 3
1.2.2薄膜生長(zhǎng)的三種機(jī)制 6
1.3薄膜生長(zhǎng)理論 8
1.3.1熱力學(xué)界面能理論 8
1.3.2原子聚集理論 13
1.4薄膜結(jié)構(gòu) 15
1.4.1薄膜結(jié)構(gòu)與缺陷 15
1.4.2結(jié)構(gòu)區(qū)域模型 16
思考題 17

第2章蒸發(fā)鍍膜
2.1蒸發(fā)原理 19
2.1.1蒸發(fā)特性 19
2.1.2合金與化合物的蒸發(fā) 22
2.1.3薄膜厚度的均勻性 24
2.1.4蒸發(fā)源與電阻蒸發(fā) 27
2.2電子束蒸發(fā) 28
2.2.1電子束加熱原理 28
2.2.2電子束蒸發(fā)源 29
2.2.3特殊電子束蒸發(fā) 31
2.3激光蒸發(fā) 32
2.3.1激光蒸發(fā)基本原理 32
2.3.2脈沖激光燒蝕 32
2.4分子束外延 35
2.4.1外延生長(zhǎng)概述 35
2.4.2分子束外延生長(zhǎng) 36
思考題 40

第3章濺射鍍膜
3.1濺射原理和特性 42
3.1.1濺射原理 42
3.1.2濺射產(chǎn)額 43
3.1.3濺射特性 44
3.1.4合金與化合物的濺射 47
3.2直流濺射 48
3.2.1二極濺射 49
3.2.2三極濺射和四極濺射 50
3.3射頻濺射 51
3.4磁控濺射 52
3.4.1磁控濺射原理與特點(diǎn) 52
3.4.2磁控濺射設(shè)備 54
3.5反應(yīng)濺射 56
3.6中頻濺射 58
思考題 59

第4章離子鍍與離子束沉積
4.1離子鍍?cè)��? 60
4.2活化反應(yīng)蒸發(fā) 61
4.3陰極電弧等離子體沉積 63
4.4離子束沉積 65
4.4.1直接引出式離子束沉積 66
4.4.2質(zhì)量分離式離子束沉積 66
4.4.3離化團(tuán)束沉積 67
4.4.4離子束輔助沉積 68
4.4.5離子束濺射 70
思考題 71

第5章化學(xué)氣相沉積
5.1化學(xué)氣相沉積原理 72
5.2熱化學(xué)氣相沉積 73
5.2.1常壓化學(xué)氣相沉積 74
5.2.2低壓化學(xué)氣相沉積 75
5.3等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 76
5.4光化學(xué)氣相沉積 79
5.5金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 80
思考題 82

第6章原子層沉積
6.1原子層沉積的過(guò)程和特點(diǎn) 83
6.1.1原子層沉積過(guò)程 83
6.1.2原子層沉積特點(diǎn) 84
6.1.3影響原子層沉積生長(zhǎng)速率的因素 84
6.2熱原子層沉積 86
6.2.1氧化物沉積 86
6.2.2半導(dǎo)體沉積 88
6.3空間原子層沉積 89
6.4電化學(xué)原子層沉積 90
6.5等離子體增強(qiáng)原子層沉積 91
6.5.1等離子體增強(qiáng)原子層沉積的反應(yīng) 91
6.5.2等離子體增強(qiáng)原子層沉積的分類(lèi)與特點(diǎn) 93
思考題 95

第7章其它薄膜沉積技術(shù)
7.1化學(xué)溶液沉積法 97
7.1.1電鍍 97
7.1.2化學(xué)鍍 101
7.1.3陽(yáng)極氧化 104
7.1.4液相外延 108
7.1.5噴霧熱解 112
7.2LB薄膜法 115
7.2.1LB薄膜定義 115
7.2.2LB膜材料在亞相上的展開(kāi)機(jī)理 115
7.2.3LB膜的沉積方法 116
7.2.4LB膜技術(shù)的特點(diǎn) 117
7.3溶膠-凝膠法 118
7.3.1溶膠-凝膠法定義 118
7.3.2溶膠-凝膠法工藝 118
7.3.3溶膠-凝膠法反應(yīng)過(guò)程 121
7.3.4溶膠-凝膠法特點(diǎn)與應(yīng)用 122
思考題 123

第8章納米薄膜組裝
8.1概述 125
8.2納米薄膜技術(shù) 127
8.2.1納米薄膜設(shè)計(jì)制備 127
8.2.2納米薄膜釋放過(guò)程 128
8.2.3納米薄膜結(jié)構(gòu)的構(gòu)建 129
8.3面向電學(xué)和光學(xué)應(yīng)用的納米薄膜組裝 129
8.3.1基于組裝納米薄膜的光電器件 129
8.3.2用于柔性和可穿戴電子產(chǎn)品的褶皺納米薄膜 131
8.4納米薄膜折紙結(jié)構(gòu) 132
8.4.1用于三維器件的卷曲納米薄膜 132
8.4.2用于智能器件的納米薄膜折紙 剪紙結(jié)構(gòu) 134
8.5仿生納米薄膜 136
8.6納米薄膜形式的二維材料 138
8.7小結(jié) 139
思考題 140

第9章薄膜的物理性質(zhì)
9.1薄膜厚度的測(cè)量與監(jiān)控 141
9.1.1薄膜厚度的測(cè)量 141
9.1.2薄膜厚度的監(jiān)控 147
9.2薄膜的力學(xué)性質(zhì) 152
9.2.1薄膜的附著力 153
9.2.2薄膜的內(nèi)應(yīng)力 157
9.2.3薄膜的硬度 161
9.3薄膜的電學(xué)性質(zhì) 162
9.3.1薄膜電阻 162
9.3.2連續(xù)金屬薄膜的電學(xué)性質(zhì) 164
9.3.3非連續(xù)金屬薄膜的電學(xué)性質(zhì) 165
9.3.4薄膜的介電性質(zhì) 167
9.4薄膜的光學(xué)性質(zhì) 169
9.4.1特征矩陣 169
9.4.2減反膜 173
9.4.3反射膜 177
9.4.4濾光片 180
思考題 180

第10章薄膜材料及應(yīng)用
10.1概述 182
10.2集成電路中的薄膜 185
10.2.1集成電路制造工藝概述 185
10.2.2介質(zhì)層薄膜 186
10.2.3金屬化 187
10.3薄膜晶體管 189
10.3.1薄膜晶體管概述 189
10.3.2薄膜晶體管類(lèi)型 191
10.3.3薄膜晶體管工作原理和特性參數(shù) 192
10.3.4薄膜晶體管的應(yīng)用 193
10.4鐵電薄膜 195
10.4.1鐵電性、熱釋電性和壓電性 195
10.4.2鐵電材料歷史 196
10.4.3鐵電材料及制備技術(shù) 196
10.4.4鐵電滯回線 198
10.4.5鐵電薄膜的應(yīng)用 199
10.5薄膜太陽(yáng)電池 201
10.5.1太陽(yáng)電池的原理與特性 202
10.5.2非晶硅薄膜太陽(yáng)電池 203
10.5.3銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)電池 207
10.5.4碲化鎘薄膜太陽(yáng)電池 211
10.6透明導(dǎo)電薄膜 213
10.6.1透明導(dǎo)電薄膜材料 214
10.6.2透明導(dǎo)電薄膜制備 217
10.6.3透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)與光學(xué)性能 218
10.6.4高價(jià)態(tài)摻雜透明導(dǎo)電氧化物薄膜 220
10.6.5透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用 222
10.7光催化薄膜 224
10.7.1半導(dǎo)體光催化概述 224
10.7.2TiO2光催化薄膜 226
10.7.3超親水TiO2薄膜 231
10.7.4TiO2光催化薄膜的應(yīng)用 232
思考題 234

參考文獻(xiàn)