第1章 概論
1.1 非接觸測(cè)量的主要對(duì)象
1.2 非接觸測(cè)量技術(shù)的歷史與現(xiàn)狀
1.3 風(fēng)洞非接觸測(cè)量技術(shù)的特點(diǎn)和應(yīng)用水平
1.4 風(fēng)洞非接觸測(cè)量發(fā)展趨勢(shì)
參考文獻(xiàn)
第2章 光學(xué)顯示技術(shù)
2.1 陰影技術(shù)
2.1.1 月影技術(shù)的基本原理
2.1.2 月影技術(shù)試驗(yàn)裝置
2.1.3 月影技術(shù)的應(yīng)用
2.2 紋影技術(shù)
2.2.1 泰普勒紋影法基本原理
2.2.2 靈敏度分析與計(jì)算
2.2.3 泰普勒系統(tǒng)改型及常見試驗(yàn)裝置 第1章 概論
1.1 非接觸測(cè)量的主要對(duì)象
1.2 非接觸測(cè)量技術(shù)的歷史與現(xiàn)狀
1.3 風(fēng)洞非接觸測(cè)量技術(shù)的特點(diǎn)和應(yīng)用水平
1.4 風(fēng)洞非接觸測(cè)量發(fā)展趨勢(shì)
參考文獻(xiàn)
第2章 光學(xué)顯示技術(shù)
2.1 陰影技術(shù)
2.1.1 月影技術(shù)的基本原理
2.1.2 月影技術(shù)試驗(yàn)裝置
2.1.3 月影技術(shù)的應(yīng)用
2.2 紋影技術(shù)
2.2.1 泰普勒紋影法基本原理
2.2.2 靈敏度分析與計(jì)算
2.2.3 泰普勒系統(tǒng)改型及常見試驗(yàn)裝置
2.2.4 彩色紋影技術(shù)
2.2.5 聚焦紋影技術(shù)
2.2.6 紋影技術(shù)的應(yīng)用
2.3 干涉技術(shù)
2.3.1 干涉的基本原理
2.3.2 馬赫-曾德干涉技術(shù)
2.3.3 剪切干涉技術(shù)
2.3.4 光柵干涉技術(shù)
2.3.5 莫爾條紋技術(shù)
2.3.6 差分干涉技術(shù)
2.3.7 全息干涉技術(shù)
2.3.8 干涉圖的處理
2.3.9 干涉技術(shù)的應(yīng)用
2.4 片光技術(shù)
2.4.1 基本原理
2.4.2 煙線技術(shù)
2.4.3 蒸汽屏技術(shù)
2.4.4 片光技術(shù)的應(yīng)用
2.5 紅外技術(shù)
2.5.1 紅外成像原理
2.5.2 紅外成像系統(tǒng)
2.5.3 紅外測(cè)溫影響因素分析
2.5.4 試驗(yàn)方法
2.5.5 紅外測(cè)熱
2.5.6 紅外技術(shù)的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第3章 光學(xué)測(cè)量技術(shù)
3.1 激光多普勒測(cè)速技術(shù)
3.1.1 基本原理
3.1.2 激光多普勒測(cè)速系統(tǒng)的組成和分類
3.1.3 粒子撒播
3.1.4 激光多普勒技術(shù)在風(fēng)洞中的應(yīng)用
3.2 粒子圖像測(cè)速技術(shù)
3.2.1 基本原理
3.2.2 基本構(gòu)成
3.2.3 二維粒子圖像測(cè)速技術(shù)的若干進(jìn)展
3.2.4 三維粒子圖像測(cè)速技術(shù)
3.3 激光跟蹤測(cè)量技術(shù)
3.3.1 激光跟蹤儀的原理
3.3.2 激光跟蹤儀的組成
3.3.3 激光跟蹤儀的應(yīng)用
3.4 哈特曼波前測(cè)量技術(shù)
3.4.1 測(cè)量原理及其在流場(chǎng)測(cè)量的應(yīng)用范圍
3.4.2 應(yīng)用實(shí)例
參考文獻(xiàn)
第4章 光譜診斷技術(shù)
4.1 自發(fā)輻射光譜探測(cè)技術(shù)
4.1.1 基本原理
4.1.2 應(yīng)用實(shí)例
4.2 激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)
4.2.1 激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)基本原理
4.2.2 激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)在流場(chǎng)診斷中的應(yīng)用
4.3 瑞利散射技術(shù)
4.3.1 瑞利散射
4.3.2 一般瑞利散射技術(shù)
4.3.3 濾波瑞利散射技術(shù)
4.4 喇曼光譜技術(shù)
4.4.1 自發(fā)喇曼散射
4.4.2 相干反斯托克斯喇曼散射
4.4.3 喇曼感生克爾效應(yīng)
4.4.4 受激喇曼增益和損耗光譜及其他非線性光譜技術(shù)
4.5 可調(diào)諧二極管激光器吸收光譜法
4.5.1 TDLAS技術(shù)基本原理
4.5.2 TDLAS系統(tǒng)設(shè)計(jì)及實(shí)現(xiàn)
4.5.3 TDLAS技術(shù)的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第5章 微波測(cè)量技術(shù)
5.1 電磁散射測(cè)量技術(shù)
5.1.1 測(cè)量原理
5.1.2 測(cè)量系統(tǒng)
5.1.3 應(yīng)用情況
5.2 電子密度診斷技術(shù)
5.2.1 微波干涉儀
5.2.2 微波諧振腔
5.3 微波測(cè)速技術(shù)
5.3.1 微波測(cè)速的原理
5.3.2 微波測(cè)速的關(guān)鍵技術(shù)
5.3.3 微波測(cè)速技術(shù)的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第6章 攝影測(cè)量及圖像處理技術(shù)
6.1 數(shù)字圖像處理基礎(chǔ)
6.1.1 數(shù)字圖像的基本特征
6.1.2 圖像采集和處理硬件
6.1.3 高速攝影技術(shù)
6.2 攝影測(cè)量學(xué)基本原理
6.2.1 攝影測(cè)量常用成像模型
6.2.2 雙目／多目測(cè)量基本原理
6.3 攝影系統(tǒng)標(biāo)定技術(shù)
6.3.1 攝像機(jī)標(biāo)定方法概述
6.3.2 二維圖像畸變的標(biāo)定與修正
6.3.3 基于控制點(diǎn)進(jìn)行的攝像機(jī)標(biāo)定方法
6.4 圖像目標(biāo)亞像素定位技術(shù)
6.4.1 亞像素定位原理和算法設(shè)計(jì)原則
6.4.2 數(shù)字相關(guān)亞像素定位方法
6.5 目標(biāo)表面三維結(jié)構(gòu)和形狀測(cè)量
6.5.1 光切法
6.5.2 雙目測(cè)量方法
6.6 攝影測(cè)量技術(shù)在風(fēng)洞中的應(yīng)用
6.6.1 視頻變形測(cè)量技術(shù)
6.6.2 投影莫爾條紋干涉測(cè)量技術(shù)
6.6.3 OptotrakTM測(cè)量系統(tǒng)
6.6.4 壓敏漆/溫敏漆技術(shù)
6.6.5 光切法測(cè)量結(jié)冰體三維外形
6.6.6 投影圖像法測(cè)量旋轉(zhuǎn)體空間掃描角和轉(zhuǎn)速
參考文獻(xiàn)
第7章 計(jì)算流動(dòng)顯示技術(shù)
7.1 流場(chǎng)數(shù)值模擬
7.2 插值技術(shù)
7.3 波前相位
7.4 光線在非均勻流場(chǎng)中的偏轉(zhuǎn)
7.5 計(jì)算陰影
7.6 計(jì)算紋影
7.7 計(jì)算干涉
7.8 分區(qū)重構(gòu)
7.9 應(yīng)用算例
參考文獻(xiàn)