目錄
序言
第1章 光學(xué)參量過程概述1
1.1 壓縮態(tài)光場制備研究進展1
1.1.1 光纖中的壓縮光制備2
1.1.2 波導(dǎo)中的壓縮光制備5
1.1.3 原子氣室中的壓縮光制備8
1.1.4 三種介質(zhì)材料壓縮態(tài)制備研究現(xiàn)狀11
1.1.5 光學(xué)參量振蕩技術(shù)及研究現(xiàn)狀12
1.2 光學(xué)參量振蕩器14
1.2.1 光學(xué)非線性過程簡介14
1.2.2 光學(xué)參量放大與光學(xué)參量振蕩19
1.2.3 簡并與非簡并光學(xué)參量振蕩器25
1.3 光學(xué)參量過程的噪聲特性28
1.3.1 光學(xué)參量振蕩器的運動方程28
1.3.2 輸出態(tài)的噪聲方差31
1.4 影響壓縮度的關(guān)鍵因素33
1.4.1 技術(shù)噪聲34
1.4.2 光學(xué)損耗35
1.4.3 相位噪聲37
參考文獻39
第2章 光學(xué)諧振腔技術(shù)43
2.1 光學(xué)諧振腔的分類44
2.2 光學(xué)諧振腔的傳輸特性44
2.2.1 光學(xué)諧振腔的能量傳輸44
2.2.2 光學(xué)諧振腔的傳輸函數(shù)48
2.2.3 光學(xué)諧振腔的噪聲特性51
2.2.4 光學(xué)諧振腔的應(yīng)用53
2.3 模式清潔器技術(shù)58
2.3.1 模式清潔器的結(jié)構(gòu)58
2.3.2 模式清潔器的濾波特性59
2.3.3 模式清潔器的功能和用途61
2.4 光學(xué)參量腔技術(shù)64
參考文獻67
第3章 光場調(diào)制技術(shù)70
3.1 光場調(diào)制的基本概念70
3.1.1 振幅調(diào)制70
3.1.2 頻率調(diào)制和相位調(diào)制71
3.2 光場調(diào)制的物理基礎(chǔ)74
3.2.1 電光調(diào)制的物理基礎(chǔ)74
3.2.2 聲光調(diào)制的物理基礎(chǔ)76
3.3 橫向電光強度調(diào)制83
3.4 電光相位調(diào)制87
3.4.1 電光相位調(diào)制的原理87
3.4.2 存在剩余振幅調(diào)制的電光相位調(diào)制89
3.4.3 抑制剩余振幅調(diào)制技術(shù)92
3.5 電光調(diào)制器的電學(xué)性能96
參考文獻98
第4章 激光噪聲抑制技術(shù)100
4.1 強度噪聲100
4.1.1 強度噪聲理論基礎(chǔ)100
4.1.2 強度噪聲的測量與表征104
4.1.3 強度噪聲抑制技術(shù)109
4.2 相位噪聲122
4.2.1 相位噪聲的頻譜特性
4.2.2 相位噪聲的測量與表征126
4.2.3 相位噪聲抑制技術(shù)133
參考文獻136
第5章 激光穩(wěn)頻技術(shù)138
5.1 激光穩(wěn)頻概述138
5.1.1 頻率穩(wěn)定性的來源與定義138
5.1.2 影響頻率穩(wěn)定性的因素139
5.1.3 穩(wěn)頻的方法與基本思想141
5.2 飽和吸收穩(wěn)頻143
5.2.1 飽和吸收穩(wěn)頻的基本物理思想143
5.2.2 飽和吸收穩(wěn)頻的基本構(gòu)造143
5.2.3 常見飽和吸收穩(wěn)頻方法144
5.2.4 影響飽和吸收穩(wěn)頻頻率穩(wěn)定性的因素146
5.3 光學(xué)腔穩(wěn)頻.147
5.3.1 光學(xué)腔穩(wěn)頻的基本物理思想147
5.3.2 光學(xué)腔幅度特性穩(wěn)頻法147
5.4 PDH穩(wěn)頻148
5.4.1 PDH穩(wěn)頻的基本物理思想148
5.4.2 PDH穩(wěn)頻的基本構(gòu)造149
5.4.3 PDH穩(wěn)頻的定量模型150
5.4.4 PDH穩(wěn)頻的噪聲源155
5.5 PDH穩(wěn)頻在光學(xué)參量振蕩器中的應(yīng)用156
5.5.1 RAM引起腔失諧的研究156
5.5.2 RAM引起相位起伏的研究159
參考文獻160
第6章 光電探測技術(shù)163
6.1 光電探測器163
6.1.1 光電探測原理163
6.1.2 光電二極管介紹165
6.2 PDH穩(wěn)頻應(yīng)用的光電探測器166
6.2.1 寬帶光電探測器166
6.2.2 共振型光電探測器170
6.3 量子噪聲探測及探測器應(yīng)用176
6.3.1 貝爾態(tài)探測176
6.3.2 平衡零拍探測193
參考文獻208
第7章 壓縮態(tài)光場的實驗制備211
7.1 光學(xué)損耗與相位噪聲212
7.1.1 光學(xué)損耗213
7.1.2 相位噪聲223
7.2 明亮壓縮態(tài)光場的制備228
7.2.1 明亮壓縮態(tài)光場制備實驗裝置228
7.2.2 明亮壓縮態(tài)光場制備實驗結(jié)果229
7.3 壓縮真空態(tài)光場實驗制備及理論擬合230
7.3.1 壓縮真空態(tài)光場制備實驗裝置230
7.3.2 壓縮真空態(tài)光場制備實驗結(jié)果232
7.3.3 實驗結(jié)果與理論擬合232
7.4 聲頻段壓縮真空態(tài)光場的制備.234
7.4.1 相干控制技術(shù)234
7.4.2OPO腔長鎖定235
7.4.3 聲頻段壓縮真空態(tài)光場制備實驗裝置235
7.4.4 聲頻段壓縮真空態(tài)光場制備實驗結(jié)果237
7.5 本章小結(jié)239
參考文獻239
第8章 糾纏態(tài)光場的實驗制備243
8.1 相位角控制精度對糾纏態(tài)的影響243
8.1.1 相位角控制精度與糾纏度的關(guān)系244
8.1.2 實驗裝置和結(jié)果分析248
8.2 雙模糾纏態(tài)光場的制備251
8.2.1 雙模糾纏態(tài)理論模型252
8.2.2 雙模糾纏態(tài)理論分析255
8.2.3 實驗裝置和結(jié)果分析257
8.3 邊模糾纏態(tài)光場的制備260
8.3.1 邊模糾纏的產(chǎn)生260
8.3.2 邊模濾波與操控261
8.3.3 邊模糾纏的探測266
8.4 本章小結(jié)269
參考文獻270
結(jié)束語274