《介電常數(shù)近零媒質(zhì)的集成光學(xué)摻雜理論及應(yīng)用》針對介電常數(shù)近零（ENZ）媒質(zhì)及其光學(xué)摻雜調(diào)控展開研究，介紹了集成化、低損耗的ENZ媒質(zhì)及光學(xué)摻雜的理論與實現(xiàn)方案，并基于近零折射率特性與光學(xué)摻雜電磁調(diào)控給出一系列電路與天線領(lǐng)域的關(guān)鍵應(yīng)用。《介電常數(shù)近零媒質(zhì)的集成光學(xué)摻雜理論及應(yīng)用》的內(nèi)容可以總結(jié)為如下三個方面。①基礎(chǔ)理論與平臺方面：闡述了集成光學(xué)摻雜的理論，可解決近零折射率媒質(zhì)與光學(xué)摻雜的損耗問題與平面集成困難。②工程應(yīng)用方面：介紹了基于集成光學(xué)摻雜的電路與天線應(yīng)用，將近零折射率媒質(zhì)的獨特性質(zhì)與集成光學(xué)摻雜的高效電磁調(diào)控引入工程實踐，在器件的幾何結(jié)構(gòu)靈活性、功能可操控性上相較于傳統(tǒng)設(shè)計有質(zhì)的提升。③理論與應(yīng)用的進一步拓展：將光學(xué)摻雜理論從單一摻雜異質(zhì)體情形拓展至多摻雜異質(zhì)體情形，闡述了色散編碼的理論與應(yīng)用，介紹了與單元排布無關(guān)的超構(gòu)媒質(zhì)新范式。本書的讀者對象是從事電磁理論及應(yīng)用工作的學(xué)者、工程技術(shù)人員及研究生。