光學真空鍍膜技術(shù)（光學鍍膜基礎(chǔ) 膜系設(shè)計 光學薄膜制備技術(shù) 光學薄膜檢測技術(shù)）
定 價：46 元
- 作者：石澎 馬平
- 出版時間：2022/2/1
- ISBN：9787111693567
- 出 版 社：機械工業(yè)出版社
- 中圖法分類：TN305 8
- 頁碼：144
- 紙張：
- 版次：
- 開本：16開
近些年，隨著手機、汽車、安防監(jiān)控等光學鏡頭終端市場的規(guī)模化、持續(xù)性擴張，對光學薄膜的需求也越來越多，光學真空鍍膜技能型人才供不應(yīng)求的局面日益凸顯。本書以弱化理論、側(cè)重實踐與技能為原則，按照工序?qū)⒐鈱W真空鍍膜技術(shù)分為光學鍍膜基礎(chǔ)與膜系設(shè)計、光學薄膜制備技術(shù)、光學薄膜檢測技術(shù)三部分，對應(yīng)光學薄膜制備的三個核心流程，基于工作過程和典型工作任務(wù)設(shè)置單元和內(nèi)容，使書中內(nèi)容與職業(yè)崗位要求相匹配。
本書可作為高職、中職院校光學相關(guān)專業(yè)的課程教材，也可供相關(guān)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員學習參考。
前言
第1章 光學鍍膜基礎(chǔ)1
1.1光學薄膜理論基礎(chǔ)1
1.1.1平面電磁波在單一界面上的反射和折射1
1.1.2菲涅爾公式2
1.1.3光學薄膜特性的理論計算8
1.2光學薄膜設(shè)計12
1.2.1增透膜的設(shè)計12
1.2.2高反膜的設(shè)計16
1.2.3分光膜的設(shè)計18
1.2.4干涉濾光片21
1.3光學薄膜材料26
1.3.1金屬薄膜材料26
1.3.2介質(zhì)和半導體薄膜材料28
1.3.3金屬膜與介質(zhì)膜的比較33
第2章光學薄膜制備技術(shù)34
2.1真空及真空設(shè)備34
2.1.1真空技術(shù)知識及主要術(shù)語定義34
2.1.2獲得真空所需的設(shè)備40
2.1.3真空的測量47
2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝51
2.2.1熱蒸發(fā)鍍膜機理介紹51
2.2.2熱蒸發(fā)鍍膜工藝分類61
2.2.3離子束輔助沉積工藝介紹69
2.2.4影響熱蒸發(fā)鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)74
2.3濺射鍍膜工藝85
2.3.1濺射鍍膜機理介紹85
2.3.2濺射鍍膜工藝分類86
2.3.3影響濺射鍍膜質(zhì)量的工藝參數(shù)114
第3章光學薄膜檢測技術(shù)118
3.1光學薄膜反射率和透過率測量118
3.1.1光譜分析測試系統(tǒng)原理118
3.1.2薄膜透過率測量120
3.1.3薄膜反射率測量121
3.1.4影響測量準確度的因素122
3.2光學薄膜厚度的測量123
3.2.1干涉法測量薄膜厚度123
3.2.2輪廓法測量薄膜厚度124
3.2.3其他測量方法125
3.3光學薄膜激光損傷閾值測量125
3.3.1光學薄膜損傷測量標準及判定125
3.3.2幾類激光損傷閾值測量方法介紹125
3.3.3激光損傷測試裝置126
3.3.4 1 on 1損傷測試標準過程127
3.4光學薄膜其他參數(shù)測量128
3.4.1薄膜的吸收和散射測量128
3.4.2薄膜材料折射率測量131
3.4.3薄膜散射測量133
3.4.4薄膜折射率測量135
參考文獻138
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