本書從金剛石膜晶體機(jī)構(gòu)、光電及熱性能等基本概念出發(fā)，描述膜的制備工藝；在成功制得[100]定向金剛石膜基礎(chǔ)上，對(duì)它和其它晶面取向的CVD金剛石膜進(jìn)行全面的表征；介紹了金剛石薄膜肖特基場(chǎng)效應(yīng)晶體管和金剛石薄膜紫外光探測(cè)器。在此基礎(chǔ)上研究了金剛石膜粒子探測(cè)器的制備工藝，并通過(guò)所設(shè)計(jì)的信號(hào)處理系統(tǒng)測(cè)量得到在不同粒子輻照下的探測(cè)器的響應(yīng)特性，研制出能有效工作于高溫下（650C左右）、高速響應(yīng)、抗輻射能力強(qiáng)并具有好的能量分辨能力的CVD金剛石列陣粒子探測(cè)器，為金剛石象素列陣探測(cè)器的研制提供實(shí)驗(yàn)經(jīng)驗(yàn)和基礎(chǔ)。本書著重介紹CVD金剛石粒子探測(cè)器件的制備工藝和性能和CVD金剛石象素列陣探測(cè)器件的設(shè)計(jì)和工藝。

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