芯片設(shè)計(jì) CMOS模擬集成電路版圖設(shè)計(jì)與驗(yàn)證 基于Cadence IC 617
定 價(jià)：99 元
叢書名：半導(dǎo)體與集成電路關(guān)鍵技術(shù)叢書 微電子與集成電路先進(jìn)技術(shù)叢書
- 作者：陳鋮穎 范軍 尹飛飛
- 出版時(shí)間：2021/7/1
- ISBN：9787111680222
- 出 版 社：機(jī)械工業(yè)出版社
- 中圖法分類：TN402
- 頁碼：345
- 紙張：
- 版次：
- 開本：16開
本書主要依托Cadence IC 617版圖設(shè)計(jì)工具與Mentor Calibre版圖驗(yàn)證工具，在介紹新型CMOS器件和版圖基本原理的基礎(chǔ)上，結(jié)合版圖設(shè)計(jì)實(shí)踐，采取循序漸進(jìn)的方式，討論使用Cadence IC 617與Mentor Calibre進(jìn)行CMOS模擬集成電路版圖設(shè)計(jì)、驗(yàn)證的基礎(chǔ)知識(shí)和方法，內(nèi)容涵蓋了納米級(jí)CMOS器件，CMOS模擬集成電路版圖基礎(chǔ)，Cadence IC 617與Mentor Calibre的基本概況、操作界面和使用方法，CMOS模擬集成電路從設(shè)計(jì)到導(dǎo)出數(shù)據(jù)進(jìn)行流片的完整流程。同時(shí)分章節(jié)介紹了利用Cadence IC 617版圖設(shè)計(jì)工具進(jìn)行運(yùn)算放大器、帶隙基準(zhǔn)源、低壓差線性穩(wěn)壓器等基本模擬電路版圖設(shè)計(jì)的基本方法。*后對(duì)Mentor Calibre在LVS驗(yàn)證中典型的錯(cuò)誤案例進(jìn)行了解析。
本書通過結(jié)合器件知識(shí)、電路理論和版圖設(shè)計(jì)實(shí)踐，使讀者深刻了解CMOS電路版圖設(shè)計(jì)和驗(yàn)證的規(guī)則、流程和基本方法，對(duì)于進(jìn)行CMOS模擬集成電路學(xué)習(xí)的在校高年級(jí)本科生、碩士生和博士生，以及從事集成電路版圖設(shè)計(jì)與驗(yàn)證的工程師，都會(huì)起到有益的幫助。
前言
第1章 納米級(jí)CMOS器件1
1.1概述1
1.2平面全耗盡絕緣襯底上硅（FD-SOI）MOSFET4
1.2.1采用薄氧化埋層的原因5
1.2.2超薄體中的二維效應(yīng)8
1.3FinFET11
1.3.1三柵以及雙柵FinFET12
1.3.2實(shí)際中的結(jié)構(gòu)選擇19
1.4基于gm/ID的設(shè)計(jì)方法20
1.4.1模擬集成電路的層次化設(shè)計(jì)20
1.4.2gm/ID設(shè)計(jì)方法所處的地位21
1.4.3gm/ID設(shè)計(jì)方法的優(yōu)勢22
1.4.4基于Vov的設(shè)計(jì)方法23
1.4.5gm/ID設(shè)計(jì)方法詳述27
1.4.6基于gm/ID的設(shè)計(jì)實(shí)例31
第2章 CMOS模擬集成電路版圖基礎(chǔ)33
2.1CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)流程33
2.2CMOS模擬集成電路版圖定義36
2.3CMOS模擬集成電路版圖設(shè)計(jì)流程37
2.3.1版圖規(guī)劃38
2.3.2版圖設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)39
2.3.3版圖驗(yàn)證40
2.3.4版圖完成41
2.4版圖設(shè)計(jì)通用規(guī)則42
2.5版圖布局44
2.5.1對(duì)稱約束下的晶體管級(jí)布局45
2.5.２版圖約束下的層次化布局46
2.6版圖布線50
2.7CMOS模擬集成電路版圖匹配設(shè)計(jì)54
2.7.1CMOS工藝失配機(jī)理54
2.7.2元器件版圖匹配設(shè)計(jì)規(guī)則56
第3章 Cadence Virtuoso 617版圖設(shè)計(jì)工具59
3.1Cadence Virtuoso 617界面介紹59
3.1.1Cadence Virtuoso 617 CIW界面介紹60
3.1.2Cadence Virtuoso 617 Library Manager界面介紹66
3.1.3Cadence Virtuoso 617 Library Path Editor操作介紹85
3.1.4Cadence Virtuoso 617 Layout Editor界面介紹96
3.2Virtuoso 基本操作124
3.2.1創(chuàng)建圓形124
3.2.2創(chuàng)建矩形125
3.2.3創(chuàng)建路徑126
3.2.4創(chuàng)建標(biāo)識(shí)名127
3.2.5調(diào)用器件和陣列128
3.2.6創(chuàng)建接觸孔和通孔130
3.2.7創(chuàng)建環(huán)形圖形131
3.2.8移動(dòng)命令132
3.2.9復(fù)制命令133
3.2.10拉伸命令134
3.2.11刪除命令135
3.2.12合并命令135
3.2.13改變層次關(guān)系命令136
3.2.14切割命令138
3.2.15旋轉(zhuǎn)命令139
3.2.16屬性命令140
3.2.17分離命令141
3.2.18改變形狀命令142
3.2.19版圖層擴(kuò)縮命令143
第4章 Mentor Calibre版圖驗(yàn)證工具145
4.1Mentor Calibre版圖驗(yàn)證工具簡介145
4.2Mentor Calibre版圖驗(yàn)證工具調(diào)用145
4.2.1采用Virtuoso Layout Editor內(nèi)嵌方式啟動(dòng)146
4.2.2采用Calibre圖形界面啟動(dòng)147
4.2.3采用Calibre View查看器啟動(dòng)149
4.3Mentor Calibre DRC驗(yàn)證151
4.3.1Calibre DRC驗(yàn)證簡介151
4.3.2Calibre nmDRC界面介紹153
4.3.3Calibre nmDRC驗(yàn)證流程舉例159
4.4Mentor Calibre nmLVS驗(yàn)證170
4.4.1Calibre nmLVS驗(yàn)證簡介170
4.4.2Calibre nmLVS界面介紹170
4.4.3Calibre LVS驗(yàn)證流程舉例183
4.5Mentor Calibre寄生參數(shù)提取(PEX)194
4.5.1Calibre PEX驗(yàn)證簡介194
4.5.2Calibre PEX界面介紹194
4.5.3Calibre PEX流程舉例204
第5章 CMOS模擬集成電路版圖設(shè)計(jì)與驗(yàn)證流程213
5.1設(shè)計(jì)環(huán)境準(zhǔn)備213
5.2單級(jí)跨導(dǎo)放大器電路的建立和前仿真219
5.3跨導(dǎo)放大器版圖設(shè)計(jì)230
5.4跨導(dǎo)放大器版圖驗(yàn)證與參數(shù)提取241
5.5跨導(dǎo)放大器電路后仿真258
5.6輸入輸出單元環(huán)設(shè)計(jì)264
5.7主體電路版圖與輸入輸出單元環(huán)的連接272
5.8導(dǎo)出GDSII文件277
第6章運(yùn)算放大器的版圖
設(shè)計(jì)280
6.1運(yùn)算放大器基礎(chǔ)280
6.2運(yùn)算放大器的基本特性和分類281
6.2.1運(yùn)算放大器的基本特性281
6.2.2運(yùn)算放大器的性能參數(shù)282
6.2.3運(yùn)算放大器的分類286
6.3單級(jí)折疊共源共柵運(yùn)算放大器的版圖設(shè)計(jì)291
6.4兩級(jí)全差分密勒補(bǔ)償運(yùn)算放大器的版圖設(shè)計(jì)296
6.5電容—電壓轉(zhuǎn)換電路版圖設(shè)計(jì)300
第7章 帶隙基準(zhǔn)源與低壓差線性穩(wěn)壓器的版圖設(shè)計(jì)308
7.1帶隙基準(zhǔn)源的版圖設(shè)計(jì)308
7.1.1帶隙基準(zhǔn)源基本原理308
7.1.2帶隙基準(zhǔn)源版圖設(shè)計(jì)實(shí)例314
7.2低壓差線性穩(wěn)壓器的版圖設(shè)計(jì)318
7.2.1低壓差線性穩(wěn)壓器的基本原理319
7.2.2低壓差線性穩(wěn)壓器版圖設(shè)計(jì)實(shí)例321
第8章 Calibre LVS常見錯(cuò)誤解析326
8.1LVS錯(cuò)誤對(duì)話框（RVE對(duì)話框）326
8.2誤連接334
8.3短路336
8.4斷路337
8.5違反工藝原理338
8.6漏標(biāo)342
8.7元件參數(shù)錯(cuò)誤343
參考文獻(xiàn)345
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