第1章緒論(1)

1.1焦平面成像探測(1)

1.2控制成像探測的光波參量(8)

第2章電控液晶微透鏡陣列(12)

2.1引言(12)

2.2液晶的基本物性(12)

2.2.1液晶類型(12)

2.2.2序參數(shù)(14)

2.2.3介電各向異性(14)

2.2.4液晶雙折射(15)

2.2.5黏滯系數(shù)(16)

2.2.6彈性連續(xù)體理論(16)

2.2.7邊界效應(18)

2.3功能化液晶的指向矢計算(19)

2.3.1迭代方程組數(shù)值化(24)

2.3.2邊界條件(24)

2.3.3程序流程圖(25)

2.3.4仿真架構(26)

2.4電控液晶微光學結構(44)

2.5電控液晶透鏡與微透鏡(50)

2.5.1研究進展情況(50)

2.5.2典型屬性與特征(58)

2.6小結(62)

第3章液晶基波前成像探測(64)

3.1引言(64)

3.2局域子波前測量與目標波前還原(64)

3.2.1SH波前測量法(65)

3.2.2液晶基波前成像測量法(66)

3.3用于波前測量的面陣電控液晶微透鏡(67)

3.4譜圖像的分解與融合(70)

3.5液晶基波前成像(82)

3.6小結(84)

第4章基于波前成像的景深擴展(85)

4.1引言(85)

4.2波前成像中的圖像模糊問題(85)

4.3液晶基波前成像景深特征(88)

4.4基于電控液晶微透鏡擴展波前成像景深(92)

4.5小結(112)

第5章基于波前成像的物空間深度測量(113)

5.1引言(113)

5.2波前成像物空間深度不敏感性(113)

5.3基于液晶基波前成像的物空間深度測量(118)

5.3.1液晶基波前光學成像探測系統(tǒng)測量物空間深度(118)

5.3.2基于Sobel梯度算子評估圖像清晰度(120)

5.4物空間深度標定與評估(121)

5.4.1物空間深度標定(121)

5.4.2物空間深度測量評估(132)

5.5小結(133)

第6章液晶基光場成像探測(134)

6.1引言(134)

6.2常規(guī)三維成像(134)

6.3光場成像(136)

6.4用于光場成像的電控液晶微透鏡陣列(143)

6.4.1單元液晶微透鏡(146)

6.4.2加載不同信號均方根電壓的液晶微透鏡(148)

6.4.3液晶厚度不同的微透鏡(149)

6.4.4關鍵性工藝步驟(151)

6.5液晶基電控景深光場成像(153)

6.5.1電控光場成像建模(154)

6.5.2圖像的光場表征(156)

6.5.3電控光場成像的光學結構配置(159)

6.5.4電控光場成像景深特征(164)

6.6液晶基光場相機(166)

6.7光場圖像的加工處理與渲染(170)

6.8小結(174)

第7章基于電控光場成像的運動參數(shù)測量(175)

7.1引言(175)

7.2電控光場成像的三維投影模型(175)

7.3虛物點深度估算與深度分辨率(181)

7.4液晶基光場相機的標定特征(183)

7.5運動參數(shù)測量與評估(187)

7.5.1運動參數(shù)計算(187)

7.5.2運動參數(shù)的實驗測量(190)

7.6小結(191)

第8章液晶基光場與平面一體化成像(192)

8.1引言(192)

8.2雙模一體化成像系統(tǒng)設計(192)

8.3雙模一體化相機(196)

8.4高分辨率三維圖像重建(201)

8.4.1六種度量值計算方法(202)

8.4.2清晰度評價函數(shù)(204)

8.5液晶基光場相機原型(206)

8.5.1近景成像用液晶基光場相機(206)

8.5.2遠景成像用液晶基光場相機(208)

8.6毫秒/亞毫秒數(shù)量級的圖像渲染耗時(214)

8.7物空間的液晶基可尋址加電層析成像(215)

8.8小結(219)

第9章紅外光場成像的石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(220)

9.1引言(220)

9.2石墨烯電極的轉移制備(220)

9.2.1機械剝離法(221)

9.2.2外延生長法(221)

9.2.3化學氣相沉積法(221)

9.2.4氧化還原法(222)

9.3基于石墨烯電極的紅外液晶微透鏡陣列(224)

9.4液晶的單晶石墨烯誘導定向(229)

9.4.1單晶石墨烯誘導的液晶初始定向特征(229)

9.4.2單晶石墨烯的液晶定向特征(235)

9.4.3單晶石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(239)

9.5小結(252)

第10章液晶基偏振成像探測(253)

10.1引言(253)

10.2偏振成像基本特征(253)

10.2.1光學旋轉器(255)

10.2.2相位延遲器(255)

10.3偏振光場成像(259)

10.4偏振光場成像用電控液晶微透鏡陣列(270)

10.4.1基片與電極(271)

10.4.2石墨烯轉移(271)

10.4.3涂布光刻膠與曝光(271)

10.4.4蝕刻(271)

10.4.5液晶器件化(271)

10.4.6測試與評估(272)

10.5層疊耦合正交偏振液晶微透鏡(273)

10.6偏振與偏振不敏感光場成像(284)

10.7小結(288)

第11章基于扭曲向列相液晶的偏振光場成像(289)

11.1引言(289)

11.2扭曲向列相電控液晶微透鏡(290)

11.2.1扭曲向列相液晶微透鏡的典型控光過程(290)

11.2.2扭曲向列相液晶微透鏡的典型工作模式(291)

11.3偏振差分去霧成像(294)

11.4偏振光場與平面成像一體化去霧(297)

11.5小結(308)

第12章石墨烯基電控液晶微透鏡與偏振光場成像(309)

12.1引言(309)

12.2單晶石墨烯制備與表征(310)

12.2.1單晶Cu(111)晶膜制備(312)

12.2.2單晶石墨烯制備(313)

12.2.3單晶石墨烯表征(313)

12.3液晶石墨烯定向(315)

12.4石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(318)

12.5偏振光場成像景深特征(322)

12.6紅外液晶微透鏡(330)

12.7小結(339)

參考文獻(340)