部分引論與建模

第1章引論

1.1個考慮

1.2薄膜表征和質量控制

1.3本書的結構

第2章多孔氧化鋯樣品的表征作為光學和非光學表征方法相互作用的例子

2.1光學與非光學的薄膜表征

2.2基于強度測量的光學表征

2.3表征示例：光學和非光學方法之間的相互作用

2.3.1光學常數(shù)

2.3.2光學常數(shù)與孔隙率的關系：混舍模型

2.3.3多孔薄腱的應用

2.4結論

參考文獻

第3章寬光譜區(qū)薄膜表征的通用色散模型

3.1簡介

3.2.理論背景

3.2.1經(jīng)典模型

3.2.2基于量子力學的模型

3.2.3展寬

3.3元激發(fā)的色散模型

3.3.1聲子吸收

3.3.2價電子激發(fā)

3.3.3局域態(tài)的電子躍遷

3.3.4自由栽流子的貢獻

3.3.5核芯電子激發(fā)

3.4結論

參考文獻

第4章從頭計算預測光學特性

4.1引言

4.2能帶結構計算

4.2.1量子力學波函數(shù)

4.2.2密度泛函理論

4.2.3交換關聯(lián)泛函

4.2.4超越DFT

4.3光學特性

4.3.1BetheSalpeter方程

4.3.2一般工作流程

4.4復雜系統(tǒng)建模

4.4.1特殊的準隨機結構

4.4.2模擬退火

4.4.3例：Ti～Si.0：的折射率

4.5關于解釋結果的幾點說明

4.5.1預測與實驗

4.5.2電子與光學帶隙

4.6結論

參考文獻

第二部分..分光光度法和橢圓偏振光譜法

第5章薄膜的反射光譜成像法光學表征

5.1引言

5.2反射光譜成像法發(fā)展和開發(fā)的動機

5.3正入射下非顯微成像光譜反射測量技術簡介

5.4.ISR技術實驗裝置

5.5成像反射光譜儀

5.5.1..寬光譜區(qū)成像光譜反射儀

5.5.2空間分辨率增強的成像反射光譜儀

5.6數(shù)據(jù)采集

5.7成像反射光譜儀的主要特點

5.8成像反射光譜儀的方法

5.8.1單像素ISR法作為獨立方法

……

第6章成像分光光度法的數(shù)據(jù)處理方法

第7章單層膜與多層膜的在線和離線分光光度法表征1:基礎

第8章單層和多層膜的在線和離線分光光度法表征2:實驗技術

第9章分層系統(tǒng)的橢圓偏振測量

第三部分缺陷和波紋的薄膜表征

第10章缺陷薄膜的光學表征

第11章光學薄膜的掃描探針顯微技術表征

第12章共振波導光柵結構

第13章深紫外線柵偏振片的偏振控制

第四部分散射和吸收

第14章光學薄膜的粗糙度與散射

第15章光學薄膜中的吸收和熒光測量

第16章光學薄膜表征的環(huán)形腔衰蕩技術