部分引論與建模

第1章引論

1.1個(gè)考慮

1.2薄膜表征和質(zhì)量控制

1.3本書的結(jié)構(gòu)

第2章多孔氧化鋯樣品的表征作為光學(xué)和非光學(xué)表征方法相互作用的例子

2.1光學(xué)與非光學(xué)的薄膜表征

2.2基于強(qiáng)度測(cè)量的光學(xué)表征

2.3表征示例：光學(xué)和非光學(xué)方法之間的相互作用

2.3.1光學(xué)常數(shù)

2.3.2光學(xué)常數(shù)與孔隙率的關(guān)系：混舍模型

2.3.3多孔薄腱的應(yīng)用

2.4結(jié)論

參考文獻(xiàn)

第3章寬光譜區(qū)薄膜表征的通用色散模型

3.1簡(jiǎn)介

3.2.理論背景

3.2.1經(jīng)典模型

3.2.2基于量子力學(xué)的模型

3.2.3展寬

3.3元激發(fā)的色散模型

3.3.1聲子吸收

3.3.2價(jià)電子激發(fā)

3.3.3局域態(tài)的電子躍遷

3.3.4自由栽流子的貢獻(xiàn)

3.3.5核芯電子激發(fā)

3.4結(jié)論

參考文獻(xiàn)

第4章從頭計(jì)算預(yù)測(cè)光學(xué)特性

4.1引言

4.2能帶結(jié)構(gòu)計(jì)算

4.2.1量子力學(xué)波函數(shù)

4.2.2密度泛函理論

4.2.3交換關(guān)聯(lián)泛函

4.2.4超越DFT

4.3光學(xué)特性

4.3.1BetheSalpeter方程

4.3.2一般工作流程

4.4復(fù)雜系統(tǒng)建模

4.4.1特殊的準(zhǔn)隨機(jī)結(jié)構(gòu)

4.4.2模擬退火

4.4.3例：Ti～Si.0：的折射率

4.5關(guān)于解釋結(jié)果的幾點(diǎn)說(shuō)明

4.5.1預(yù)測(cè)與實(shí)驗(yàn)

4.5.2電子與光學(xué)帶隙

4.6結(jié)論

參考文獻(xiàn)

第二部分..分光光度法和橢圓偏振光譜法

第5章薄膜的反射光譜成像法光學(xué)表征

5.1引言

5.2反射光譜成像法發(fā)展和開(kāi)發(fā)的動(dòng)機(jī)

5.3正入射下非顯微成像光譜反射測(cè)量技術(shù)簡(jiǎn)介

5.4.ISR技術(shù)實(shí)驗(yàn)裝置

5.5成像反射光譜儀

5.5.1..寬光譜區(qū)成像光譜反射儀

5.5.2空間分辨率增強(qiáng)的成像反射光譜儀

5.6數(shù)據(jù)采集

5.7成像反射光譜儀的主要特點(diǎn)

5.8成像反射光譜儀的方法

5.8.1單像素ISR法作為獨(dú)立方法

……

第6章成像分光光度法的數(shù)據(jù)處理方法

第7章單層膜與多層膜的在線和離線分光光度法表征1:基礎(chǔ)

第8章單層和多層膜的在線和離線分光光度法表征2:實(shí)驗(yàn)技術(shù)

第9章分層系統(tǒng)的橢圓偏振測(cè)量

第三部分缺陷和波紋的薄膜表征

第10章缺陷薄膜的光學(xué)表征

第11章光學(xué)薄膜的掃描探針顯微技術(shù)表征

第12章共振波導(dǎo)光柵結(jié)構(gòu)

第13章深紫外線柵偏振片的偏振控制

第四部分散射和吸收

第14章光學(xué)薄膜的粗糙度與散射

第15章光學(xué)薄膜中的吸收和熒光測(cè)量

第16章光學(xué)薄膜表征的環(huán)形腔衰蕩技術(shù)