光刻機像質(zhì)檢測技術是支撐光刻機整機與分系統(tǒng)滿足光刻機分辨率、套刻精度等性能指標要求的關鍵技術。本書系統(tǒng)地介紹了光刻機像質(zhì)檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質(zhì)檢測技術，詳細介紹了本團隊提出的系列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質(zhì)參數(shù)、波像差、偏振像差、動態(tài)像差、熱像差等像質(zhì)檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、算法、仿真與實驗驗證等內(nèi)容。以光刻機原位與在線像質(zhì)檢測技術為主，也介紹了投影物鏡的離線像質(zhì)檢測技術，涵蓋了深紫外干式、浸液光刻機以及極紫外光刻機像質(zhì)檢測技術。

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