定 價(jià):39 元
叢書名:西北工業(yè)大學(xué)研究生高水平課程體系建設(shè)叢書
- 作者:馮麗萍,劉正堂 著
- 出版時(shí)間:2016/2/1
- ISBN:9787561247396
- 出 版 社:西北工業(yè)大學(xué)出版社
- 中圖法分類:TB43
- 頁(yè)碼:222
- 紙張:膠版紙
- 版次:1
- 開本:16開
《薄膜技術(shù)與應(yīng)用》為研究生高水平課程教材。全書主要內(nèi)容包括真空技術(shù)基礎(chǔ)、真空蒸發(fā)鍍膜、分子束外延生長(zhǎng)、濺射鍍膜、激光脈沖沉積、離子鍍和離子束沉積、化學(xué)氣相沉積、原子層沉積(ALD)鍍膜、溶液鍍膜法和自組裝膜等。
《薄膜技術(shù)與應(yīng)用》既可作為研究生的相關(guān)課程教材,也可供其他人員學(xué)習(xí)參考。
薄膜是一種一維線性尺度遠(yuǎn)小于其他二維尺度的物質(zhì)形態(tài),在厚度這一特定的方向上尺寸很小,一直可以延伸到單個(gè)分子層(或原子層)。正是基于薄膜的這種特殊的形態(tài),在制備和研究薄膜的過程中,需要先進(jìn)的技術(shù)手段作為支撐。隨著電子工業(yè)和信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,特別是在電子器件領(lǐng)域的發(fā)展,薄膜材料的研究和工業(yè)化得到了極大的推進(jìn)。器件的微型化,使得用于器件的薄膜材料厚度不斷減薄,達(dá)到了納米級(jí),甚至出現(xiàn)了單層材料,獲得了許多全新的物理性能,這不僅保留了器件原來(lái)功能,并使這些功能得到了加強(qiáng)和拓展。薄膜技術(shù)作為器件微型化的關(guān)鍵技術(shù),是制備這些新型器件的有效手段。在其他領(lǐng)域薄膜材料也得到了廣泛的應(yīng)用,諸如航天、醫(yī)藥、能源、交通等,薄膜材料與技術(shù)已經(jīng)滲透到了現(xiàn)代科技的各個(gè)重要領(lǐng)域。正是由于薄膜材料及技術(shù)的飛速發(fā)展,要想更好地制備具有優(yōu)異性能、符合某一領(lǐng)域應(yīng)用要求的薄膜材料,必須掌握各種成膜技術(shù)和薄膜物理的基礎(chǔ)知識(shí)。特別是近年來(lái)發(fā)展了一些新的薄膜制備技術(shù),例如原子層沉積鍍膜技術(shù)、自組裝鍍膜技術(shù)等,是從事薄膜制備和研究的人員需要學(xué)習(xí)和了解的;谏鲜霰尘,本書系統(tǒng)地介紹了薄膜材料的制備方法及其應(yīng)用實(shí)例。
薄膜的研究及制備技術(shù)源于17世紀(jì),隨后各種制備薄膜的方法相繼誕生。薄膜制備技術(shù)也由最初簡(jiǎn)單的物理蒸發(fā)、化學(xué)反應(yīng)發(fā)展到現(xiàn)如今以物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積為代表的先進(jìn)成膜技術(shù),其中包括真空蒸鍍、濺射、激光脈沖沉積、分子束外延、化學(xué)氣相沉積、原子層沉積、自組裝等等。這些薄膜制備方法都有著各自的原理、設(shè)備、優(yōu)缺點(diǎn)和應(yīng)用背景。本書的重點(diǎn)在于介紹薄膜制備原理及設(shè)備、技術(shù)特點(diǎn)與不足、種類、應(yīng)用實(shí)例等方面,使讀者能夠了解每一種薄膜制備工藝概況,并從一些應(yīng)用實(shí)例上加以體會(huì)和分析。
在內(nèi)容編排方面,第1章對(duì)真空技術(shù)的基礎(chǔ)知識(shí)做了介紹。第2章到第10章重點(diǎn)介紹和討論了薄膜的各種制備技術(shù),包括真空蒸發(fā)鍍膜、分子束外延、濺射鍍膜、激光脈沖沉積、離子鍍膜、化學(xué)氣相沉積、原子層沉積、溶液鍍膜以及自組裝鍍膜,并列舉了典型的薄膜應(yīng)用實(shí)例。
本書由西北工業(yè)大學(xué)馮麗萍、劉正堂編著。馮麗萍負(fù)責(zé)本書的編寫立項(xiàng)和統(tǒng)稿,并編寫了第2章、第3章、第6章、第7章、第9章和第10章。劉正堂教授編寫了第1章、第4章、第5章和第8章,并審閱了全部書稿。博士研究生李寧、蘇杰、曾為分別參與了第2章、第4章和第10章的撰寫,碩士研究生李大鵬、孟勇強(qiáng)分別參與了第6章和第9章的撰寫。
第1章 真空技術(shù)基礎(chǔ)
1.1 真空的基本知識(shí)
1.2 稀薄氣體的性質(zhì)
1.3 真空的獲得
1.4 真空的測(cè)量
習(xí)題
第2章 真空蒸發(fā)鍍膜
2.1 真空蒸鍍?cè)?br>2.2 蒸發(fā)加熱方式及蒸發(fā)源
2.3 真空蒸鍍工藝
2.4 真空蒸鍍應(yīng)用舉例
習(xí)題
第3章 分子束外延生長(zhǎng)
3.1 分子束外延的原理及特點(diǎn)
3.2 分子束外延設(shè)備
3.3 MBE生長(zhǎng)
3.4 MBE方法制備的材料及其器件應(yīng)用
習(xí)題
第4章 濺射鍍膜
4.1 濺射鍍膜的特點(diǎn)
4.2 濺射的基本原理
4.3 濺射特性
4.4 濺射原子的能量分布和角分布
4.5 濺射過程
4.6 濺射方法
4.7 濺射鍍膜的實(shí)例
習(xí)題
第5章 激光脈沖沉積
5.1 激光脈沖沉積鍍膜原理
5.2 工藝參數(shù)對(duì)PLD鍍膜質(zhì)量影響
5.3 脈沖激光沉積的優(yōu)缺點(diǎn)
5.4 脈沖激光沉積的種類及應(yīng)用
習(xí)題
第6章 離子鍍和離子束沉積
6.1 離子鍍
6.2 幾種典型的離子鍍方式
6.3 離子束沉積
6.4 應(yīng)用實(shí)例
習(xí)題
第7章 化學(xué)氣相沉積
7.1 CVD沉積基本原理
7.2 常用的化學(xué)氣相沉積方法
7.3 CVD應(yīng)用鍍膜實(shí)例
習(xí)題
第8章 原子層沉積(ALD)鍍膜
8.1 ALD的原理
8.2 ALD的技術(shù)特征及優(yōu)點(diǎn)
8.3 ALD的種類
8.4 ALD的應(yīng)用舉例
習(xí)題
第9章 溶液鍍膜法
9.1 電鍍技術(shù)
9.2 化學(xué)鍍
9.3 溶膠-凝膠(Sol-Gel)法
9.4 陽(yáng)極氧化法
9.5 LB技術(shù)
9.6 溶液鍍膜法應(yīng)用舉例
習(xí)題
第10章 自組裝膜
10.1 自組裝技術(shù)
10.2 自組裝單分子膜
10.3 層層自組裝多層膜
10.4 自組裝膜制備的影響因素
10.5 自組裝膜的表征
10.6 自組裝膜應(yīng)用
習(xí)題
參考文獻(xiàn)