本書系統(tǒng)介紹了人工晶體生長(zhǎng)的基礎(chǔ)理論和相圖技術(shù)，在此基礎(chǔ)上全面介紹了人工晶體生長(zhǎng)主流技術(shù)如水溶液法、助熔劑法、水熱法、焰熔法、提拉法和坩堝下降法等，詳細(xì)介紹了上述人工晶體生長(zhǎng)技術(shù)的基本原理、設(shè)備設(shè)計(jì)與構(gòu)造、生長(zhǎng)工藝以及它們的優(yōu)缺點(diǎn)等。同時(shí)，作者結(jié)合自身多年科研工作成果積累，選擇性介紹了幾種重要的光電子晶體材料的生長(zhǎng)技術(shù)。