CEI（connectedelementinterferometry，連線干涉測(cè)量，也可稱為“短基線干涉測(cè)量”）技術(shù)是干涉測(cè)量技術(shù)的一種，其基線長(zhǎng)度一般為幾十千米；其通過(guò)對(duì)載波相時(shí)延的測(cè)量，進(jìn)而實(shí)時(shí)獲得目標(biāo)相對(duì)于基線矢量的精確角位置，可適用于中高軌衛(wèi)星的高精度測(cè)定軌及相對(duì)定位�！禖EI測(cè)量技術(shù)原理、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與應(yīng)用》重點(diǎn)介紹了CEI技術(shù)的基本原理，CEI系統(tǒng)的設(shè)計(jì)構(gòu)建，實(shí)現(xiàn)CEI所突破的關(guān)鍵技術(shù)，以及CEI技術(shù)的工程應(yīng)用實(shí)例；內(nèi)容豐富全面，理論與實(shí)踐并重。《CEI測(cè)量技術(shù)原理、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與應(yīng)用》有助

本書(shū)共分4章，系統(tǒng)地介紹了力、電、光等基礎(chǔ)理論知識(shí)和物理實(shí)驗(yàn)基礎(chǔ)知識(shí)，并在此基礎(chǔ)上根據(jù)物理實(shí)驗(yàn)室建設(shè)情況設(shè)計(jì)了力、電、光共21個(gè)實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目，使基礎(chǔ)理論和實(shí)踐操作有機(jī)統(tǒng)一，并拓展了相關(guān)知識(shí)在國(guó)防軍事與生產(chǎn)生活中的應(yīng)用。

本書(shū)系統(tǒng)地介紹了物理和材料研究領(lǐng)域常用的單晶生長(zhǎng)和薄膜制備方法，以及用來(lái)表征晶體或薄膜結(jié)構(gòu)、顯微組織、形貌、成分、價(jià)態(tài)等方面的分析技術(shù)；涵蓋了X射線衍射技術(shù)、各種電子顯微技術(shù)、掃描探針技術(shù)、能譜技術(shù)、表面物理分析技術(shù)、核物理方法測(cè)試技術(shù)和光譜分析技術(shù)。并對(duì)這些分析技術(shù)的基本原理、儀器結(jié)構(gòu)和應(yīng)用等進(jìn)行了系統(tǒng)的闡述。具體涉及的分析儀器包括X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡、能譜儀、波譜儀、低能電子衍射、高能電子衍射、俄歇電子能譜、X射線光電子能譜、掃描隧道顯微鏡、原子力顯微鏡、正電子湮沒(méi)技