本書含結(jié)晶學(xué)和礦物學(xué)兩部分內(nèi)容。結(jié)晶學(xué)部分，以晶體對(duì)稱—晶體定向—單形與聚形為線索，直觀地介紹了晶體宏觀對(duì)稱、群論基礎(chǔ)、晶體結(jié)構(gòu)微觀對(duì)稱理論；同時(shí)還介紹了晶體生長、晶體規(guī)則連生及晶體化學(xué)的基礎(chǔ)知識(shí)。礦物學(xué)部分，先介紹了基礎(chǔ)知識(shí)，然后對(duì)各大類、類、族、種等不同晶體化學(xué)分類級(jí)別的礦物進(jìn)行了歸納、對(duì)比，重點(diǎn)是闡述各大類、類、

《相分離技術(shù)及應(yīng)用》一書全面總結(jié)了氣固、氣液、液固以及其他形式的各物質(zhì)相態(tài)之間的分離理論和技術(shù)。從基礎(chǔ)理論出發(fā)，到新技術(shù)的開發(fā)和應(yīng)用，全面闡釋了“相分離”的概念和過程，全面總結(jié)了化工生產(chǎn)和環(huán)保領(lǐng)域中所涉及的各物質(zhì)相態(tài)分離的過程，實(shí)現(xiàn)了理論與實(shí)踐的結(jié)合。從傳統(tǒng)分離方法到新型高效的分離方法，論述完整，角度新穎，對(duì)工業(yè)生產(chǎn)有

Fullprof是一種用于晶體結(jié)構(gòu)分析和精修的軟件工具，被廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和固體物理領(lǐng)域。它能夠擬合實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和理論模型，從而確定晶體結(jié)構(gòu)的精確參數(shù)。在晶體分析中，F(xiàn)ullprof的應(yīng)用對(duì)于研究工作具有重要意義。它可以幫助研究人員確定晶體結(jié)構(gòu)的空間群和晶胞參數(shù)，提供準(zhǔn)確的晶胞參數(shù)和晶體結(jié)構(gòu)信息，從而幫助研究人員理解晶體

晶體結(jié)構(gòu)精修主要基于Rietveld方法，該方法通過在給定的晶體結(jié)構(gòu)模型上，利用最小二乘法對(duì)晶體結(jié)構(gòu)信息和峰形參數(shù)進(jìn)行擬合，使計(jì)算圖譜與實(shí)際衍射圖譜盡可能一致。這種方法能夠充分利用全譜衍射數(shù)據(jù)，有效解析出晶胞參數(shù)、原子位置等關(guān)鍵信息，對(duì)于材料科學(xué)、物理、化學(xué)等領(lǐng)域的研究具有重要意義。

晶體缺陷知識(shí)屬于固體科學(xué)的基本組成部分，對(duì)物質(zhì)的制備、性能和應(yīng)用等研究均可產(chǎn)生重要的作用。本書較為全面而系統(tǒng)地簡要介紹有關(guān)晶體缺陷的基本知識(shí)，主要是晶體缺陷中最基本的形式即晶體點(diǎn)缺陷，呈現(xiàn)其基本知識(shí)、基本研究方法及基本理論應(yīng)用，內(nèi)容主要包括晶體缺陷的概念、點(diǎn)缺陷的類型、點(diǎn)缺陷的形成、點(diǎn)缺陷的表征、點(diǎn)缺陷熱力學(xué)、點(diǎn)缺陷的

"晶體材料具有非常優(yōu)異的性能，已在高新技術(shù)及工業(yè)應(yīng)用上引起廣泛關(guān)注。本書主要對(duì)晶體物理性能的兩大特點(diǎn)：物理性能（力、熱、電、磁、光、聲）的各向異性和不同物理效應(yīng)之間存在的相互作用，給予了從基本原理到應(yīng)用的較為詳細(xì)的介紹，特別是對(duì)激光光學(xué)晶體在激光的調(diào)制、調(diào)Q、鎖模、倍頻（非線性光學(xué)）、參量轉(zhuǎn)換，電光，聲光，熱電，磁電，

《X射線多晶衍射數(shù)據(jù)Rietveld精修及GSAS軟件入門》一書自2016年出版至今已有七年，迄今已重印4次。目前，書中的部分網(wǎng)站鏈接失效，部分引用數(shù)據(jù)已更新。另外，也有讀者建議增加其他的操作內(nèi)容，以豐富圖書的內(nèi)容。修訂時(shí)，主要更新了一些網(wǎng)站鏈接以及部分引用數(shù)據(jù)，同時(shí)明確了軟件和教程下載二維碼的所在頁數(shù)。增加了采用GS

全書共8章，第1章和第2章從閃爍發(fā)光的基本概念和基本原理入手，以簡潔通俗的方式闡述閃爍晶體的發(fā)光過程、發(fā)光機(jī)理，以及閃爍性能的測(cè)試和表征方法。第3-第7章按照材料的化學(xué)成分分別對(duì)鹵化物、鍺酸鉍、鎢酸鹽、硅酸鹽和鋁酸鹽等五個(gè)類別中的典型閃爍晶體進(jìn)行介紹，闡述其結(jié)構(gòu)、性能、生長方法、生長缺陷，以及制備技術(shù)等。第8章集中展示

《材料X射線衍射基礎(chǔ)與實(shí)踐》根據(jù)“教育部高等學(xué)校材料類專業(yè)教學(xué)指導(dǎo)委員會(huì)規(guī)劃教材”建設(shè)項(xiàng)目的要求，博采同類教材眾長并結(jié)合編者多年教學(xué)和科研心得，從學(xué)生學(xué)習(xí)角度整合教材內(nèi)容，教材深挖教學(xué)重點(diǎn)、剖析難點(diǎn)，不僅著眼于學(xué)生基礎(chǔ)知識(shí)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建，更注重學(xué)生思考能力的培養(yǎng)。本書內(nèi)容的安排如下：第1章緒論，闡述該課程在材料科學(xué)與工程專

本書主要內(nèi)容包括晶體生長研究實(shí)例和晶體生長前沿專題研究進(jìn)展上下兩篇，上篇主要收集、整理、介紹了作者團(tuán)隊(duì)有關(guān)晶體生長的研究成果，包括離心傾液法與鋁硅合金中Si的晶體生長、納米顆粒對(duì)純鋁和鋁硅合金晶體生長的影響、合金元素對(duì)鎂合金表面氧化膜生長的影響等有關(guān)研究實(shí)例，下篇以專題綜述的形式主要介紹了目前國內(nèi)外超高溫Nb-Si基合