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當(dāng)前分類數(shù)量:208  點(diǎn)擊返回 當(dāng)前位置:首頁 > 中圖法 【TN30 一般性問題】 分類索引
  • 化合物半導(dǎo)體加工中的表征
    • 化合物半導(dǎo)體加工中的表征
    • [美] 布倫德爾,埃文斯,麥克蓋爾 編/2014-1-1/ 哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社/定價(jià):¥68
    • 《化合物半導(dǎo)體加工中的表征(英文)》的主要內(nèi)容包括:PrefacetotheReissueoftheMaterialsCharacterizationSeriesix;PrefacetoSeriesx;PrefacetotheReissueofCharacterizationofCompoundSemiconducto

    • ISBN:9787560342818
  • 硅通孔3D集成技術(shù)
    • 硅通孔3D集成技術(shù)
    • (美)劉漢誠(Lau,J.H.)著/2014-1-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥150
    • 《信息科學(xué)技術(shù)學(xué)術(shù)著作叢書:硅通孔3D集成技術(shù)》系統(tǒng)討論用于電子、光電子和MEMS器件的三維集成硅通孔(TSV)技術(shù)的最新進(jìn)展和未來可能的演變趨勢(shì),同時(shí)詳盡討論三維集成關(guān)鍵技術(shù)中存在的主要工藝問題和可能的解決方案。通過介紹半導(dǎo)體工業(yè)中的納米技術(shù)和三維集成技術(shù)的起源和演變歷史,結(jié)合當(dāng)前三維集成關(guān)鍵技術(shù)的發(fā)展重點(diǎn)討論

    • ISBN:9787030393302
  • 納米半導(dǎo)體器件與技術(shù)
    • 納米半導(dǎo)體器件與技術(shù)
    • (加)印紐斯基 編,劉明,呂杭炳 譯/2013-12-1/ 國(guó)防工業(yè)出版社/定價(jià):¥71.3
    • 《納米半導(dǎo)體器件與技術(shù)》(作者印紐斯基)這本書由來自工業(yè)界和學(xué)術(shù)界的國(guó)際頂級(jí)專家參與撰寫,是一本對(duì)未來納米制造技術(shù)有濃厚興趣的人必讀的書!都{米半導(dǎo)體器件與技術(shù)》介紹了半導(dǎo)體工藝從標(biāo)準(zhǔn)的CMOS硅工藝到新型器件結(jié)構(gòu)的演變,包括碳納米管、石墨烯、量子點(diǎn)、III-V族材料。本書涉及納米電子器件的研究現(xiàn)狀,提供了包羅萬象的關(guān)

    • ISBN:9787118090789
  • SMT工藝與PCB制造(雙色)
    • SMT工藝與PCB制造(雙色)
    • 何麗梅 著/2013-9-1/ 電子工業(yè)出版社/定價(jià):¥35
    • 本書是為適應(yīng)當(dāng)前中職電子技術(shù)應(yīng)用專業(yè)教學(xué)改革形勢(shì)發(fā)展而編寫的一本電子工藝實(shí)踐教材。全書共分兩部分,第1部分為SMT工藝,詳細(xì)介紹了SMT中的焊錫膏印刷、貼片、焊接、檢測(cè)等技能型人才應(yīng)該掌握的基本知識(shí),特別強(qiáng)調(diào)了生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的工藝指導(dǎo),同時(shí)也介紹了SMT設(shè)備的性能、操作方法及日常維護(hù)。第2部分是PCB制造方面的知識(shí),主要內(nèi)容

    • ISBN:9787121214486
  • 新能源系列--硅片加工工藝(黃建華)
    • 新能源系列--硅片加工工藝(黃建華)
    • 黃建華,廖東進(jìn) 主編/2013-9-1/ 化學(xué)工業(yè)出版社/定價(jià):¥28
    • 本書主要講解了晶硅硅片加工工藝,主要包括單晶硅棒截?cái)、單晶硅棒與多晶硅錠開方、單晶硅塊磨面與滾圓、多晶硅塊磨面與倒角,多線切割、硅片清洗、硅片檢測(cè)與包裝等。本書根據(jù)硅片生產(chǎn)工藝流程,采用任務(wù)驅(qū)動(dòng)、項(xiàng)目訓(xùn)練的方法組織教學(xué),以側(cè)重實(shí)踐操作技能為原則,注重實(shí)踐與理論的緊密結(jié)合,以職業(yè)崗位能力為主線突出應(yīng)用性和實(shí)踐性。本書適合

    • ISBN:9787122176936
  • Lateral Alignment of Epitaxial Quantum Dots外延量子點(diǎn)的側(cè)向排列(影印版)
    • Lateral Alignment of Epitaxial Quantum Dots外延量子點(diǎn)的側(cè)向排列(影印版)
    • 施密特 著/2013-7-1/ 北京大學(xué)出版社/定價(jià):¥122
    • 物理學(xué)是研究物質(zhì)、能量以及它們之間相互作用的科學(xué)。她不僅是化學(xué)、生命、材料、信息、能源和環(huán)境等相關(guān)學(xué)科的基礎(chǔ),同時(shí)還是許多新興學(xué)科和交叉學(xué)科的前沿。在科技發(fā)展H新月異和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈的今天,物理學(xué)不僅囿于基礎(chǔ)科學(xué)和技術(shù)應(yīng)用研究的范疇,而且在社會(huì)發(fā)展與人類進(jìn)步的歷史進(jìn)程中發(fā)揮著越來越關(guān)鍵的作用。我們欣喜地看到,改革開放

    • ISBN:9787301227855
  • Semiconductor Nanostructures半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)(影印版)
    • Semiconductor Nanostructures半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)(影印版)
    • (德)賓貝格 主編/2013-7-1/ 北京大學(xué)出版社/定價(jià):¥96
    • 《半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)(影印版)》這是一部由各個(gè)領(lǐng)域世界級(jí)專家共同編寫的關(guān)于半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)的專著,內(nèi)容包括量子點(diǎn)、自組織生長(zhǎng)理論、電子激子態(tài)理論、光學(xué)特性和各種材料中的輸運(yùn)等。它涵蓋了從上世紀(jì)九十年代早期到現(xiàn)在的研究工作。本書中的專題都是世界范圍內(nèi)領(lǐng)袖級(jí)半導(dǎo)體或光電器件實(shí)驗(yàn)室的研究焦點(diǎn)。本書適合在凝聚態(tài)物理、材料科學(xué)、半導(dǎo)體

    • ISBN:9787301227848
  • 納米半導(dǎo)體材料與器件
    • 納米半導(dǎo)體材料與器件
    • 肖奇 編著/2013-7-1/ 化學(xué)工業(yè)出版社/定價(jià):¥58
    • 納米半導(dǎo)體具有常規(guī)半導(dǎo)體無法媲美的奇異特性和非凡的特殊功能,在信息、能源、環(huán)境、傳感器、生物等諸多領(lǐng)域具有空前的應(yīng)用前景,成為新興納米產(chǎn)業(yè),如納米信息產(chǎn)業(yè)、納米環(huán)保產(chǎn)業(yè)、納米能源產(chǎn)業(yè)、納米傳感器以及納米生物技術(shù)產(chǎn)業(yè)等高速發(fā)展的源泉與動(dòng)力。《納米半導(dǎo)體材料與器件》力求以最新內(nèi)容,全面、系統(tǒng)闡述納米半導(dǎo)體特殊性能及其在信息

    • ISBN:9787122166555
  • 微電子與集成電路設(shè)計(jì)系列規(guī)劃教材:半導(dǎo)體器件TCAD設(shè)計(jì)與應(yīng)用
    • 微電子與集成電路設(shè)計(jì)系列規(guī)劃教材:半導(dǎo)體器件TCAD設(shè)計(jì)與應(yīng)用
    • 韓雁 ,丁扣寶 著/2013-3-1/ 電子工業(yè)出版社/定價(jià):¥45
    • 《微電子與集成電路設(shè)計(jì)系列規(guī)劃教材:半導(dǎo)體器件TCAD設(shè)計(jì)與應(yīng)用》主要內(nèi)容包括:半導(dǎo)體工藝及器件仿真工具SentaurusTCAD,工藝仿真工具TSUPREM-4及器件仿真工具M(jìn)EDICI,工藝及器件仿真工具SILVACO-TCAD,工藝及器件仿真工具ISE-TCAD,工藝仿真工具(DIOS)的優(yōu)化使用,器件仿真工具(

    • ISBN:9787121193422
  • 半導(dǎo)體材料(第三版)
    • 半導(dǎo)體材料(第三版)
    • 楊樹人,王宗昌,王兢編著/2013-2-1/ 科學(xué)出版社/定價(jià):¥36
    • 楊樹人、王宗昌、王兢編寫的這本《半導(dǎo)體材料(第3版)》是為大學(xué)本科與半導(dǎo)體相關(guān)的專業(yè)編寫的教材,介紹了主要半導(dǎo)體材料硅、砷化鎵等制備的基本原理和工藝,以及特性的控制等。全書共13章:第1章為硅和鍺的化學(xué)制備;第2章為區(qū)熔提純;第3章為晶體生長(zhǎng);第4章為硅、鍺晶體中的雜質(zhì)和缺陷;第5章為硅外延生長(zhǎng);第6章為Ⅲ-Ⅴ族化合物

    • ISBN:9787030365033